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制程1:镭雕—–化抛—–阳极,镭雕后表面粗糙度:0.52μm,阳极后表面亮度150-200GU;
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制程2:化抛—–镭雕—–阳极,镭雕后表面粗糙度:2.64μm,阳极后表面亮度60-80GU;
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制程3:化抛—–镭雕—–化抛—–阳极,镭雕后表面粗糙度:0.46μm,阳极后表面亮度200-300GU。




















制程1:镭雕—–化抛—–阳极,镭雕后表面粗糙度:0.52μm,阳极后表面亮度150-200GU;
制程2:化抛—–镭雕—–阳极,镭雕后表面粗糙度:2.64μm,阳极后表面亮度60-80GU;
制程3:化抛—–镭雕—–化抛—–阳极,镭雕后表面粗糙度:0.46μm,阳极后表面亮度200-300GU。











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